Fizikos terminų žodynas : lietuvių, anglų, prancūzų, vokiečių ir rusų kalbomis. – Vilnius : Mokslo ir enciklopedijų leidybos institutas. Vilius Palenskis, Vytautas Valiukėnas, Valerijonas Žalkauskas, Pranas Juozas Žilinskas. 2007.
Dépôt en phase vapeur — ● Dépôt en phase vapeur synonyme de vapométallurgie … Encyclopédie Universelle
Depot chimique en phase vapeur — Dépôt chimique en phase vapeur Le dépôt chimique en phase vapeur (ou CVD pour l anglais chemical vapor deposition) est une méthode de dépôt de films minces, à partir de précurseurs gazeux. Sommaire 1 Principe 2 Variantes du dépôt chimique en… … Wikipédia en Français
Dépôt Chimique En Phase Vapeur — Le dépôt chimique en phase vapeur (ou CVD pour l anglais chemical vapor deposition) est une méthode de dépôt de films minces, à partir de précurseurs gazeux. Sommaire 1 Principe 2 Variantes du dépôt chimique en phase vapeur 3 … Wikipédia en Français
Depot physique par phase vapeur — Dépôt physique par phase vapeur Le dépôt physique en phase vapeur (ou PVD pour l anglais physical vapor deposition) est une méthode de dépôt sous vide de films minces. Une autre méthode de Dépôt sous vide de films minces est le dépôt chimique en… … Wikipédia en Français
Dépôt Physique Par Phase Vapeur — Le dépôt physique en phase vapeur (ou PVD pour l anglais physical vapor deposition) est une méthode de dépôt sous vide de films minces. Une autre méthode de Dépôt sous vide de films minces est le dépôt chimique en phase vapeur (ou CVD pour l… … Wikipédia en Français
Dépôt physique en phase vapeur — Dépôt physique par phase vapeur Le dépôt physique en phase vapeur (ou PVD pour l anglais physical vapor deposition) est une méthode de dépôt sous vide de films minces. Une autre méthode de Dépôt sous vide de films minces est le dépôt chimique en… … Wikipédia en Français
Dépôt chimique en phase vapeur — Le dépôt chimique en phase vapeur (ou CVD pour l anglais chemical vapor deposition) est une méthode de dépôt sous vide de films minces, à partir de précurseurs gazeux. Sommaire 1 Principe 2 Variantes du dépôt chimique en phase vapeur 3 … Wikipédia en Français
Dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma — Equipement de PECVD. Le dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (ou PECVD, pour Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition en anglais) est un procédé utilisé pour déposer des couches minces sur un substrat à partir d un état gazeux… … Wikipédia en Français
Dépôt physique par phase vapeur — Le dépôt physique en phase vapeur (ou PVD pour l anglais physical vapor deposition) est une méthode de dépôt sous vide de films minces. Une autre méthode de dépôt sous vide de films minces est le dépôt chimique en phase vapeur (ou CVD pour l… … Wikipédia en Français
dépôt chimique en phase vapeur — cheminis garinis nusodinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. chemical vapor deposition vok. chemische Abscheidung aus der Gasphase, f rus. химическое осаждение из паровой фазы, n pranc. déposition chimique en phase vapeur,… … Radioelektronikos terminų žodynas
